天正科技異軍突/起，帶領(lǐng)自家團隊與云海光機所，半導(dǎo)體研究所合作率先完成了十三/點五納米的EUV高階光刻機的仿真建模實驗，并且在短短八個月后就成功發(fā)布樣機。

發(fā)布樣機后，國內(nèi)的電子科技公司都想要與天正科技達成合作，但天正科技態(tài)度卻有點含糊不清，目前還沒有同意與任何一家公司達成合作協(xié)議。

而天正科技給出的理由是他們云海這邊的負責人還沒回國，所以他們無法決定！