重生：開局被女神表白更新時(shí)間：2024-11-27 10:38:23
釋放閱讀上一章
上點(diǎn)眾小說(shuō)APP
體驗(yàn)流暢閱讀
第2031章
1972年，武漢無(wú)線電元件三廠編寫的《光刻掩模版的制造》，并成功研發(fā)GK-3和GK-4，把加工圓片直徑從50毫米提高到75毫米。
而清華大學(xué)研制第四代分步式投影光/刻機(jī)，并在1980年獲得成功，光刻精度達(dá)到3微米，接近國(guó)際主流水平，1982年科學(xué)院研發(fā)KHA-75-1光/刻機(jī)，跟當(dāng)時(shí)佳能相比最多也就不到4年。
