【仔細看，芯片內(nèi)部的晶體管結(jié)構(gòu)分為很多層級，它們一起組成了一個龐大的告訴公路網(wǎng)線?！?/p>

【DUV光，刻，機需要數(shù)千道工序才能完成一個芯片的制造，一臺EUV光，刻，機每天需要消耗3萬度電?！?/p>

【我國自研的光，刻，機，從65納米到22納米的量產(chǎn)，經(jīng)歷了無數(shù)次的實踐和技術(shù)迭代，但是22納米是個分水嶺，雖然我們也可以使用DUV光，刻，機制造出7納米的芯片，但是與EUV光，刻，機制造的水平還差了一大截?！?/p>